Volframia roiskuva kohdemateriaali

Volframia roiskuva kohdemateriaali

Tuotteen nimi: Volframia ruiskuttava kohdemateriaali
Pakkaus: Puulaatikot tai asiakkaan vaatimusten mukaan
Merkintä: Lasermerkintä saatavilla valmistumisen jälkeen
Lähetä kysely

Tuotteen yleiskatsaus

 

Volframia roiskuva kohdemateriaalion valmistettu erittäin-puhtaista volframimetallista (tai volframi-pohjaisista seoksista) jauhemetallurgian, kuumaisostaattisen puristuksen, sintrauksen ja lämpökäsittelyn avulla. Nämä kohteet on tarkasti-muokattu tiettyihin muotoihin (taso, pyöreä, suorakaiteen muotoinen tai mukautettu kokoonpano) volframi- tai volframi{4}}ohutkalvojen kerrostamiseksi substraateille tyhjiömagnetronin sputteroinnin avulla.

Magnetronisputteroinnissa (PVD-prosessi) metalliatomit vapautuvat sputterointikohteesta ja kerrostuvat pinnoitettavalle materiaalille ("substraatti") ohuiden kalvojen muodostamiseksi. Tämä prosessi edustaa kustannustehokasta ja nopeaa pinnoitusmenetelmää, vaikka kaikkien materiaalien on täytettävä tiukimmat laatustandardit.

 

Tekniset tiedot


 

Parametri

Tyypilliset arvot/alue

Kuvaus

Kemiallinen puhtaus

Suurempi tai yhtä suuri kuin 99,95 % (jopa 99,999 % saatavilla)

Korkea puhtaus takaa tasaiset sähköiset ja optiset kalvon ominaisuudet

Tiheys

19,3 g·cm⁻3 (teoreettinen: 19,35 g·cm⁻³)

Lähes{0}}teoreettinen tiheys parantaa kohteen käyttöä

Sulamispiste

3407 astetta (≈5900 astetta F)

Poikkeuksellinen{0}}korkean lämpötilan kestävyys

Sähkövastus

5,65 µΩ·cm (27 astetta)

Matala vastus mahdollistaa suuren{0}}tehon sputteroinnin

Lämmönjohtavuus

~170 W·m⁻¹·K⁻¹ (volframi bulkki)

Tehokas lämmönpoisto vähentää pintalämpötilan nousua

Kovuus/lujuus

Vickers ≈3500 HV, compressive strength >1500 MPa

Korkea kovuus takaa kulutuskestävyyden ja iskunkestävyyden

Lämpölaajenemiskerroin

4,5 × 10⁻⁶ K⁻¹ (20-400 astetta)

Alhainen laajeneminen minimoi lämpökiertorasituksen

Höyrynpaine

Pienempi tai yhtä suuri kuin 10⁻⁸ Pa (2000 astetta)

Minimaalinen höyrystyminen estää kohteen haihtumisen korkeissa lämpötiloissa

Muodot/mitat

Tasomaiset, pyöreät, pyörivät kohteet; halkaisija 1-4 tuumaa (≈25-100 mm), paksuus 0,1-0,5 tuumaa (≈2,5-12 mm), mukautetut tekniset tiedot saatavilla

 

 

Valmistusprosessi


 

Raaka-aineen valmistus:Erittäin -puhtaus volframijauhe (99,5–99,999 %) läpikäy hapettumis- ja kosteudenpoistokäsittelyn

Muodostaminen:Kylmäisostaattinen puristus (CIP) tai kuumaisostaattinen puristus (HIP) muodostaa viherkappaleita; joissakin tuotteissa käytetään kuumapuristusta, kuumavalssausta tai taontaa tiheyden lisäämiseksi

Sintraus:Korkean lämpötilan-sintraus 2500–3000 asteessa tyhjiössä tai inertissä ilmakehässä saavuttaa 99,5–99,9 % teoreettisesta tiheydestä

Lämpökäsittely:Hehkutus ja vanhentaminen eliminoivat jäännösjännityksen ja optimoivat raerakennetta

Tarkkuustyöstö:Tarkkuussorvaus, hionta ja kiillotus saavuttavat pinnan karheuden. Vähemmän tai yhtä kuin 0,2 µm tasaista sputterointia varten

Pintojen puhdistus ja pakkaus:Kemiallinen tarkastus ja ultraäänipuhdistus inertissä kaasuympäristössä, jonka jälkeen tyhjiöpakkaus hapettumisen estämiseksi

 

Kemialliset ominaisuudet


 

Korroosion/hapetuksenkestävyys:Minimaalinen kemiallinen reaktio syövyttävissä sputterointiympäristöissä säilyttää suorituskyvyn eheyden

Matala höyrynpaine:Äärimmäisen alhainen höyrynpaine korkeissa lämpötiloissa estää kalvon kontaminoitumisen kohteen haihtumisesta suuren{0}}tehon sputteroinnin aikana

Kemiallinen inertisyys:Kemiallisesti stabiili tyhjiö- tai inertissä kaasuympäristössä, soveltuu erilaisiin laskeumailmakehoihin (hapettava, pelkistävä, nitridoiva)

Mekaaniset ominaisuudet

Korkea kovuus ja kulutuskestävyys:Volframin kovuus (≈3500 HV) säilyttää pinnan tasaisena ionipommituksen aikana, mikä pidentää käyttöikää

Suuri lujuus ja tiheys:Tiheä rakenne (suurempi tai yhtä suuri kuin 99,5 % teoreettisesta tiheydestä) tarjoaa erinomaisen puristuslujuuden suuri-teho,-energinen ionisäde

Matala lämpölaajenemiskerroin:Minimaalinen lämpöjännitys korkeassa{0}}lämpötiloissa ajettaessa vähentää halkeiluriskiä

 

Sovellukset

 

Toimiala/ala

Erityiset sovellukset

Puolijohteiden valmistus

Kytkennät, sulkukerrokset, kontaktikerrokset (esim. W estekerrokset alle 7 nm:n solmuille)

Litteät näytöt (TFT-LCD, OLED)

TFT-lähde/tyhjennyselektrodit, optiset lisäkerrokset

Aurinkosähkö/aurinkokennot

Takaelektrodit tai optiset heijastuksenesto{0}}kerrokset

Optiset pinnoitteet

Heijastavat{0}}peilit, suodattimet, säteilyä-kestävät ikkunat

Röntgenputket/lääketieteellinen kuvantaminen

Tehokkaat-röntgen-kohteet, jotka tuottavat vakaat korkean{2}}energiset fotonit

Ilmailu, harvinaisten maametallien metallurgia

Korkean{0}}lämpötilojen korroosiota-kestävät komponentit, lämpösuojakerrokset

Kovat pinnoitteet/työkalut

W-pohjaiset kovat pinnoitteet parantavat työkalujen kulutuskestävyyttä

 

Tuotteen edut


 

Poikkeuksellinen puhtaus:Ohjatut sähköiset ja optiset kalvoominaisuudet pienemmillä vikojen määrällä

Suuri tiheys ja sputterointinopeus:Tavoitekäyttöaste jopa 80 %, mikä vähentää materiaalikustannuksia

Korkean lämpötilan kestävyys ja alhainen höyrynpaine:Säilyttää rakenteellisen vakauden suuressa{0}}tehon ruiskutuksessa yli 2000 astetta

Kemiallinen inertisyys ja korroosionkestävyys:Soveltuu erilaisiin ympäristöihin (hapetus, nitraus, silicidointi), mikä varmistaa kalvon puhtauden

Korkea kovuus ja pitkä käyttöikä:Kestää ionipommituksen aiheuttamaa kulumista, säilyttää pinnan sileyden, vähentää vaihtotiheyttä

Räätälöintimahdollisuus:Useita kokoonpanoja (tasomainen, pyöreä, pyörivä, mukautettu) erilaisten laitevaatimusten täyttämiseksi

 

Valinta- ja käyttöohjeet


 

Prosessin teho: High-power applications (>5 kW) suosittelee Suurempi tai yhtä suuri kuin 99,999 % ultra-korkean puhtauden tavoitteet, joiden tiheys on suurempi tai yhtä suuri kuin 99,9 % teoreettinen haihtumishäviöiden minimoimiseksi

Mitat:Valitse halkaisija ja paksuus sputterointijärjestelmän kohdepaikan perusteella; pyörivät kohteet tehostavat pinnan käyttöä laajalle{0}}alueelle tasaista kerrostusta

Tunnelma:Voimakkaasti hapettaviin tai fluoraviin ympäristöihin erikoiskiillotetut kohteet, joiden karheus on alhainen (vähemmän tai yhtä suuri kuin 0,1 µm) estävät pinnan hapettumisen

Pakkaus:Korkean -puhtauden kohteet tulee tyhjiö-pakata inerttiin kaasuun (Ar/N₂) hapettumisen tai kosteuden estämiseksi kuljetuksen aikana

 

FAQ:

 

Annatko näytteitä?

V: Kyllä, tarjoamme ilmaisia ​​näytteitä asiakkaan järjestämällä toimituksella. Suosittelemme näytteiden testaamista tai koetilausten tekemistä ennen suurempia ostoksia.

K: Kuinka kilpailukykyisiä hintasi ovat?

V: Hinnoittelumme kuvastaa poikkeuksellista arvoa, kun otetaan huomioon tarjoamamme korkealaatuinen laatu ja kattava palvelu.

K: Mikä on tarjouksesi läpimenoaika?

V: Tyypillisesti 24 tuntia kyselyn vastaanottamisen jälkeen. Kiireelliset pyynnöt käsitellään ensisijaisesti ilmoituksen jälkeen.

K: Kuinka voin pyytää mukautettuja tuotteita?

V: Jaa piirustuksesi, kuvasi tai näytteesi. Vahvistamme tekniset tiedot ja aloitamme tuotannon viipymättä.

 

Ota yhteyttä:

 

Tietoja STRX Titaniumista – miksi valita meidät?

Ensiluokkaiset materiaalit:Valitsemme korkealaatuiset raaka-aineet varmistaaksemme laadunvalvonnan lähteestä.

Tiukka laaduntarkastus:Tiukat laatutarkastusstandardit toteutetaan varmistaakseen 100 %:n asiakkaan vaatimusten noudattamisen.

Räätälöidyt ratkaisut:Ymmärrämme, että jokaisella toimialalla on ainutlaatuiset tarpeet. Tiimimme tekee tiivistä yhteistyötä asiakkaiden kanssa räätälöidäkseen tuotteita erityisvaatimusten mukaan. Räätälöimme kaikki titaanituotteet (väri/koko jne.) asiakkaan piirustusten tai ideoiden mukaan.

Nopea toimitus:Edistyksellinen tuotannonhallinta varmistaa tehokkaan ja nopean toimituksen tuotannosta lähetykseen.

Asiantuntijatuki:Hanki näkemyksiä omistautuneelta asiantuntijatiimiltämme, joka tarjoaa ammattitaitoista neuvontaa ja käytännön apua. STRX Titanium auttaa sinua tunnistamaan ja valitsemaan parhaat ratkaisut, jotka on räätälöity yrityksesi tarpeisiin varmistaen optimaalisen tuloksen ja tyytyväisyyden.

STRX Titanium on ansainnut jatkuvasti kiitosta asiakkailta korkealaatuisista-tuotteista ja kilpailukykyisestä hinnoittelusta. Tiukan laadunvalvonnan ja ammattitaitoisen teknisen tuen avulla odotamme innolla yhteistyötä kanssasi!

Yhteenvetona voidaan todeta, että STRX Titanium on johtava titaanituotteiden valmistaja ja toimittaja Kiinassa. Ylläpidämme vahvoja teknisiä kumppanuuksia suurten kotimaisten ja kansainvälisten laitevalmistajien kanssa ja noudatamme tiukkoja laatustandardeja vastataksemme asiakkaiden vaatimuksiin.

Jos etsit luotettavaa titaanituotteiden toimittajaa, ota meihin välittömästi yhteyttä saadaksesi lisätietoja tuotteistamme ja palveluistamme.

Sähköposti:info@strx-titanium.com

Suositut Tagit: volframi sputtering kohdemateriaali, Kiina volframi sputtering kohdemateriaalien valmistajat, toimittajat, tehdas